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芯片光刻過程中需要檢測哪些氣體


2023.12.29 瀏覽量:216 次
光刻就是把芯片制作所需要的線路和功能區(qū)做出來,是一種精密的微細加工技術(shù),芯片光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中最為復(fù)雜也是最為關(guān)鍵的環(huán)節(jié),耗時長,成本高。光刻工藝主要有涂膠、煎烘、曝光、顯影&堅膜、刻蝕以及去膠六大步驟,這幾大步驟往往會用到危險有害氣體,為了安全起見,就需要使用芯片光刻用氣體檢測儀,下面來看看芯片光刻過程中需要檢測哪些氣體?
 
過氧化氫是一種很強的氧化劑,若直接接觸皮膚,會引起皮膚和眼睛發(fā)炎以及灼傷等。主要用于清洗表面,去除表面的雜質(zhì)和污染物,保證半導(dǎo)體器件的質(zhì)量和性能。二甲苯是光刻負膠使用的溶劑,會揮發(fā)到環(huán)境中,當環(huán)境中的二甲苯達到1%-7%時就會有燃燒爆炸的可能,暴露在二甲苯中會引起眼睛、鼻子、喉嚨發(fā)炎等。六甲基二硅氮烷最常用來增加光刻膠在品圓表面附著力的底漆層,易燃且燃點低,6.7℃就會燃燒,環(huán)境中大的濃度達到0.8%-16%時就會有燃燒爆炸的可能。氫氧化四甲基氨是光刻的顯影劑,有毒且具有腐蝕性,吸入高濃度的該氣體會死亡。氯氣和氟氣都是光刻工藝的光源,都具有毒性,濃度過高會致死,長期接觸還會有頭痛、腹瀉等癥狀。還有氬氣、氖氣、氙氣、氪氣等稀有氣體,雖然無毒,但是濃度過大會有窒息的風險,在高溫高壓的情況下還會發(fā)生爆炸。
 
多參數(shù)氣體檢測儀ERUN-PG71S4
對于光刻工藝使用的氣體檢測儀,推薦西安贏潤環(huán)保生產(chǎn)的多參數(shù)氣體檢測儀ERUN-PG71S4,此款儀器為泵吸式設(shè)計,響應(yīng)速度很快,能夠在檢測到濃度異常的第一時間發(fā)出報警信息。也能同時檢測多種氣體,互不干擾。多種報警模式可設(shè)置,滿足用戶不同需求。數(shù)據(jù)存儲容量大,防護等級高,非常適合半導(dǎo)體行業(yè)使用。
 
上述即為芯片光刻過程中需要檢測哪些氣體的相關(guān)介紹,芯片光刻過程中會涉及到很多危險氣體,這些氣體對人體和環(huán)境都有不同程度的危害,為保證安全,芯片光刻用氣體檢測儀的使用不可缺少,作為氣體檢測儀的生產(chǎn)廠家,贏潤環(huán)保一直關(guān)注半導(dǎo)體行業(yè)的安全發(fā)展,不斷進行產(chǎn)品的迭代升級,以解決用戶需求。